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1、高陰極電流效率，可達22~30%。

2、高沉積速度，一般是傳統鍍鉻的2~3倍。

3、不會腐蝕陰極低電流密度區的底材。

4、鍍層硬度達HV900~1200。

5、微裂紋數達1000條/寸。

6、鍍層厚度均勻，有杰出的分散能力。

7、鍍液保護簡略，控制簡略。

8、無固體添加之鉻塵和濺水現象。

9、無陽極腐蝕，勿須運用特別陽極。